伤害某半导体器件鑫霖环保芯片生产厂，晶圆激光加工流程中诞生含硅、氟的特出废气，设汁治理 人数1200吨/日。废气化学成分多样化，富含nm级硅顆粒及氢佛酸，傳統治理 方式 不易于标准。 废水处理方法含量及來源 其主要水污染物质 ：橡胶胶体部分硅（100-500nm比表面积）、氟阴离子（200-300mg/L）、异丙醇 因素多种工序 ：晶圆刻蚀化工污水（45%）、CMP电学厂家镜面抛光化工污水（40%）、机械冲洗器水（15%） 外理鑫霖环保具体步骤 研发采用了"药剂学石雕文化沉淀+特种作业膜隔离"枝术交通路线： 钙盐沉淀自己 ：加药氯化钙我们要除氟阴离子（转化CaF2奠定） 斜管沉淀池反应迟钝 ：组合斜管沉淀池剂构建电解质溶液硅脱稳 管式微滤 ：0.1μm钻孔大小膜公款私存微细颗粒状 反覆盖系统软件 ：脱盐率>98%，收购 率75% 蒸馏凝结 ：浓水段完成氟化物无废气排放量 终于功能 氟化物盐浓度：<8mg/L（少于的国家七级标准规范10mg/L） 硅纯度：<5mg/L 水的资源中水回用率：70%代替散热塔补水保湿 垃圾减量化：化掉残余物量较传统与现代生产技术下降60%